Китайская полупроводниковая отрасль отметила важное достижение, создав прототип установки для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Эта технология, ранее контролируемая голландской компанией ASML, имеет решающее значение для производства передовых процессоров. Несмотря на усилия США предотвратить передачу этой технологии Китаю, новые данные свидетельствуют о серьезном прогрессе местных инженеров. В последние несколько лет китайские фирмы, в том числе SMIC, пытались восстановить технологию ASML, используя устаревшие компоненты и привлекая экспертов для обратной разработки. Хотя Китай еще не перешел к массовому производству чипов с использованием EUV, источники сообщают о планах достичь этой цели к 2030 году. Данная ситуация разворачивается на фоне острого технологического противостояния между США и Китаем, особенно в свете роста искусственного интеллекта. В то же время, Huawei и SMIC активно развивают производственные мощности в стране.
0
Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Вам также может быть интересно
Ведение кадрового учета и расчет заработной платы остаются одними из самых трудоемких процессов в
В последние годы мессенджеры перестали быть исключительно средством личной переписки, превратившись в полноценные платформы
На «АвтоВАЗе» произошли значительные изменения в производственном процессе благодаря внедрению роботизации. Глава компании Максим
21 мая в Каспийске состоялась важная рабочая встреча, целью которой стало активное внедрение методологий
19 мая министр тяжёлой промышленности Индии Х. Д. Кумарасвами объявил, что Тесла завершила переговоры
Чтобы войти в читательский кабинет, вам необходимо восстановить доступ. Для этого введите код, который