В Китае был разработан настольный источник экстремального ультрафиолетового (EUV) излучения, который сможет поддержать страну в достижении самообеспеченности в производстве микрочипов. Эта новая технология позволяет создавать микросхемы с топологическим узлом всего 14 нанометров. Хотя она не заменит машины ASML, устройство станет интересной альтернативой для мелкосерийного производства чипов. Кроме того, его можно использовать в задачах, связанных с инспекцией чипов и выявлением дефектов.
Новинка применяет фемтосекундный лазер, который генерирует сильное излучение, устраняя необходимость в громоздких зеркалах. В отличие от машин ASML, потребляющих до 200 ватт, новый источник использует всего 1 микроватт, что делает его значительно более экономичным по энергии. Благодаря компактным размерам и низкой стоимости, китайское устройство может помочь стране в устранении отставания в области EUV. Эксперты подчеркивают, что это открывает новые перспективы для улучшения производства и инспекции чипов, продвигая Китай к независимости от западных технологий.