С 2026 года в России стартует разработка первого отечественного литографа, который будет производить микросхемы по технологии 90 нанометров. Заместитель министра промышленности России поделился новостью в конце марта. На данный момент в стране уже есть 350-нм литограф, а работы над 130-нм машиной близки к завершению.
Проект стал частью продолжающегося процесса импортозамещения в литографическом оборудовании, начатого в 2022 году. Технология 90 нм используется для создания различных микросхем, включая чипы для интернета вещей, автоэлектроники и SIM-карт.
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) отвечает за разработку литографов. Генеральный директор центра Анатолий Ковалев сообщил, что главные цели включают освоение полного производственного цикла без импортного оборудования. ЗНТЦ уже подписал два контракта на поставку литографов, и на данный момент продолжается отработка технологических процессов.
Ожидается, что в 2030 году в России будут в разработке литографы на 65 нм и 28 нм. Наличие стабильного финансирования будет ключевым фактором в успешной реализации этих планов.