Российская Федерация объявила о начале разработки нового литографа для производства чипов с разрешением 90 нм в 2026 году. Об этом 20 марта 2026 года заявил заместитель министра промышленности Василий Шпак на научно-технической конференции в сфере радиоэлектронной промышленности. Исполнитель будет выбран по результатам конкурса, а над проектом работает Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) совместно с белорусской компанией «Планар», которая ранее занималась литографами на 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв сообщил, что их участие в конкурсе пока не определено. Проект создании литографа требует значительных вложений и времени: полноценная разработка может занять до 10 лет, а локализация существующих технологий — 2-4 года. Важно наличие полного спектра компонентов и кадров, способных обеспечить производство чипов. Разработанный на 130 нм литограф может обеспечить создание чипов с 90 нм топологией путем двукратного экспонирования. В настоящее время в России уже активно разрабатываются литографы на 350 и 130 нм.
0
Понравилась статья? Поделиться с друзьями:
Вам также может быть интересно
Ведение кадрового учета и расчет заработной платы остаются одними из самых трудоемких процессов в
В последние годы мессенджеры перестали быть исключительно средством личной переписки, превратившись в полноценные платформы
На «АвтоВАЗе» произошли значительные изменения в производственном процессе благодаря внедрению роботизации. Глава компании Максим
21 мая в Каспийске состоялась важная рабочая встреча, целью которой стало активное внедрение методологий
19 мая министр тяжёлой промышленности Индии Х. Д. Кумарасвами объявил, что Тесла завершила переговоры
Чтобы войти в читательский кабинет, вам необходимо восстановить доступ. Для этого введите код, который