В Зеленограде состоялась презентаия первого в России оборудования для производства микросхем с технологическим процессом 65 нм на 300-миллиметровых подложках, разработанного местными компаниями НИИМЭ и НИИТМ. Это оборудование предназначено для плазмохимического осаждения и травления, ключевых этапов в производстве чипов. На мировом рынке такие установки производят всего пять компаний.
Проект, в который вложено 2,5 млрд рублей, включает в себя строительство чистых помещений и разработку технологических процессов. Институт молекулярной электроники выступил главным исполнителем проекта, а НИИТМ занимался разработкой и испытаниями оборудования. Новые системы позволяют одновременно выполнять от двух до восьми операций, что значительно снижает себестоимость и улучшает качество продукции.
Представители НИИМЭ и НИИТМ отметили, что они вошли в число пяти компаний мира, обладающих подобными технологиями. Планируется активно искать заказчиков как в России, так и за рубежом, с презентацией оборудования в Китае в следующем году. Генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков сообщил, что производство одного комплекта займет около 1,5 лет, и ожидания высоки, так как спрос на такие системы будет расти.