Компания Dai Nippon Printing из Японии внесла значительные изменения в процесс нанолитографии, делая его более экономически выгодным по сравнению с традиционной фотолитографией, доминирующей на рынке. Согласно информации, предоставленной Nikkei Asia, нидерландская компания ASML контролирует до 90% рынка оборудования для производства чипов, предлагая машины для фотолитографии. Этот метод требует больших энергетических затрат и стоит сотни миллионов долларов.
Новая технология от Dai Nippon Printing ставит под сомнение существующий порядок, возвращая к использованию нанолитографии, где схемы создаются путем отпечатывания на кремниевой пластине, а не с помощью лазеров. Инженеры компании нашли способ преодолеть ограничение по топологическому узлу, который ранее не позволял создавать чипы менее 2 нанометров.
Используя специальный материал и оборудование от Canon, можно формировать структуры размером до 1,4 нм, что делает новую нанолитографию на 90% дешевле традиционной. Ведущие производители, такие как Samsung Electronics и TSMC, уже проявили интерес к разработке, однако для массового внедрения необходимы дополнительные испытания. Компания Kioxia начала тестовое производство, и если результаты будут положительными, внедрение новой технологии может начаться в 2027–2028 годах.